日期:2024-06-21~2026-06-16
城市:常州市
地址:光刻胶清洗机理
展馆:光刻胶清洗
主办:光刻胶清洗
光刻胶清洗
2024-06-21 09:46 浏览:0
等离子体清洗的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的"活化作用"达到去除物体表面污渍的目的。等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。等离子体清洗技术的特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。
1.工作频率：40KHz等离子清洗机的工作频率为40千赫（40,000赫兹），而13.56MHz等离子清洗机的工作频率为13.56兆赫（13,560,000赫兹）。工作频率不同会导致设备清洗效果和适用范围上的差异。
2.清洗效果：40KHz的低频等离子清洗对于大多数材料都可以达到较好的清洗效果，但对于一些微米或亚微米级别的颗粒或污染物去除效果可能不佳。而13.56MHz高频等离子清洗则在去除颗粒尺寸较小的污染物方面具有更高的功效，能够提供更*的清洗效果。
3.清洗速度：13.56MHz等离子清洗速度相对更快，因为具有更高的频率，能更快地传递能量，从而更有效地去除表面污垢。
4.适用范围：40KHz等离子清洗适用于大部分材料的表面清洗及去除较大颗粒尺寸的污染物，如塑料、金属、玻璃等材料。13.56MHz等离子清洗则更适用于对微米级污染物及颗粒清洗要求较高的应用，如微电子、半导体、光学等行业。
光刻胶清洗
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